የፕላዝማ ኢቲንግ ማሽን መዋቅር

የአይሲፒ መሳሪያዎች በዋነኛነት አራት ክፍሎችን ያቀፈ ነው፡ ቅድመ{0}vacuum chamber፣ etching chamber፣ የጋዝ አቅርቦት ስርዓት እና የቫኩም ሲስተም።

(1) ቅድመ{1}የቫኩም ክፍል

የቅድመ{0}vacuum chamber ተግባር የኤክዩም ክፍሉ በተቀመጠለት የቫኩም ደረጃ እንዲቆይ፣በውጫዊው አካባቢ (እንደ አቧራ፣ የውሃ ትነት) እንዳይጎዳ እና አደገኛ ጋዞችን ከንጹህ ክፍል እንዲለይ ማድረግ ነው። እሱ ሽፋን፣ ማኒፑሌተር፣ የማስተላለፊያ ዘዴ፣ የማግለል በር፣ ወዘተ ያካትታል።

(2) የማሳደጊያ ክፍል

የማሳደጊያው ክፍል የ ICP ማቀፊያ መሳሪያዎች ዋና መዋቅር ነው. በእንቁላጣው ፍጥነት, በአቀማመጥ እና በሸካራነት ላይ ቀጥተኛ ተጽእኖ ይኖረዋል. የ Etching ክፍሉ ዋና ዋና ክፍሎች-የላይኛው ኤሌክትሮል ፣ ICP የሬዲዮ ፍሪኩዌንሲ አሃድ ፣ RF የሬዲዮ ፍሪኩዌንሲ አሃድ ፣ የታችኛው ኤሌክትሮክ ሲስተም ፣ የሙቀት መቆጣጠሪያ ስርዓት ፣ ወዘተ.

(3) የጋዝ አቅርቦት ስርዓት

የጋዝ አቅርቦት ስርዓቱ የተለያዩ የጭስ ማውጫ ጋዞችን ወደ ኤክሳይድ ክፍል ማድረስ ነው, እና የጋዝ ፍሰት መጠን እና በግፊት መቆጣጠሪያ (ፒሲ) እና የጅምላ ፍሰት መቆጣጠሪያ (MFC) ውስጥ በትክክል ይቆጣጠራል. የጋዝ አቅርቦት ስርዓት የጋዝ ምንጭ ጠርሙስ, የጋዝ ማስተላለፊያ ቧንቧ መስመር, የቁጥጥር ስርዓት, ድብልቅ ክፍል, ወዘተ.

(4) የቫኩም ሲስተም
ሁለት የቫክዩም ሲስተሞች አሉ አንዱ ለቅድመ{0}vacuum chamber እና ሌላው ለመስተካከያው ክፍል። ቅድመ{2}የቫኩም ክፍል የሚለቀቀው በሜካኒካል ፓምፕ ነው። በቅድመ -የቫኩም ክፍል ውስጥ ያለው የቫኩም ደረጃ የተቀመጠው ዋጋ ላይ ሲደርስ ብቻ ቫክዩም በሩን ለማስተላለፍ የሚከፈተው። በ Etching ክፍል ውስጥ ያለው ክፍተት በሜካኒካል ፓምፕ እና በሞለኪውል ፓምፕ ይቀርባል. በኤክዩም ክፍሉ ውስጥ ባለው ምላሽ ምክንያት የሚፈጠሩት ጋዞች እንዲሁ በቫኩም ሲስተም ይወጣሉ.